獨家／新一代EUV曝光機斥資118億！台積電2奈米秘招曝

全球第一台High NA EUV曝光機，由英爾特搶頭香，為此斥資約新台幣118億元，而這台High NA EUV 是搶進2奈米或更小尺寸先進製程必不可少的武器，具備更高解析度、成像更加清晰，也因此讓晶片性能大幅提升，因為單一晶片上將能封裝更多的電晶體，每小時能列印超過185個晶圓，大幅提高產能，而且製造流程也簡化！